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达西浓纳米科技(常州)有限公司

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- MPO光纤抛光总出问题?HS300S氧化铈抛光液,一次解决划痕、衰减、效率难题

发布日期:2026-02-03浏览次数:5

在光通信高密度布线场景中,MPO光纤连接器无疑是“核心枢纽”——从数据中心的高速传输到光纤到大楼的布线工程,它承载着实现超低光损耗、超高传输效率的关键使命。而MPO光纤的性能发挥,除了自身结构设计,抛光工艺的精度的高低直接决定其端面质量,一款适配性强、性能出众的抛光液,更是解锁MPO光纤性能的“隐形密钥”。

达西浓纳米推出MPO光纤精密抛光量身打造的明星产品——氧化铈抛光液HS300S,看看它如何凭借四大核心优势,破解MPO光纤抛光痛点,成为光通信行业的优选抛光解决方案。

痛点先行:MPO光纤抛光,难在哪?

MPO作为多芯光纤连接器,其抛光工艺有着远超普通光纤的严苛要求:一方面,端面需达到极高的光洁度和平整度,避免出现划痕、凹陷等缺陷,否则会直接导致光损耗升高,影响传输性能;另一方面,抛光液需具备良好的悬浮性和稳定性,避免颗粒团聚、沉降,同时要兼顾抛光效率与成品良率,降低生产成本。

传统抛光液往往陷入“高效易划伤”“稳定效率低”“适配性差”的两难困境,而HS300S的出现,正是针对性破解这些行业痛点,让MPO光纤抛光更高效、更、更省心。

氧化铈抛光液HS300S,优势在哪?

粒度精细且分布均匀,抛光更安心

  • MPO氧化铈抛光液HS300S的氧化铈微粒原生粒径约 20-30nm,粒度分布收窄,无大颗粒杂质,硬度适配 MPO 光纤抛光需求。在抛光过程中,既能深入光纤端面的微观孔隙和不平整处完成精细研磨,又能有效避免对光纤端面造成物理划伤,让 MPO 光纤端面的中心与周边凹陷深度控制在行业标准范围内,从源头提升抛光良率。

分散悬浮性佳,抛光效率大幅提升

  • MPO氧化铈抛光液HS300S采用特殊分散工艺,氧化铈微粒均匀分散无团聚,悬浮性表现,放置后仅有轻微沉淀且易摇匀,无需反复复杂调配。使用过程中能与抛光布 / 垫完美配合,提升切削效率的同时保证抛光精度,减少因抛光液分散不均导致的返工,让 MPO 光纤抛光的加工效率显著提升。

化学稳定性高,适配性强更实用

  • MPO氧化铈抛光液HS300S化学稳定性良好,不易与其他物质发生反应,有效物质含量达 30%,密度稳定为 1.3g/c㎡,可根据实际加工需求灵活稀释调配浓度。不仅适配 MPO 光纤连接器的抛光工艺,还能应用于各类光纤插芯、PLC 分路器等光通信器件的精密端面抛光,兼顾单模、多模光纤及高密度封装场景的抛光需求,一台设备适配多种加工,降低耗材更换成本。

抛光后易清洗,低残留更护器件

  • MPO氧化铈抛光液HS300S 抛光后的 MPO 光纤端面无顽固残留,清洗流程简单高效,无需使用特殊清洗试剂,既减少了后续加工工序的时间与成本,又能避免清洗试剂对光纤器件造成二次损伤,保证 MPO 光纤连接器的光学性能与使用寿命。

环保安全易储存,生产管控更便捷

  • MPO氧化铈抛光液HS300S兼具低毒性的环保特性,使用过程中产生的粉尘和废液量少,符合环保生产要求,降低企业环保处理成本;储存条件适配工业生产环境,0~35℃下可稳定存放,无需特殊恒温设备,且存放过程中不易凝胶失效,大幅降低耗材储存损耗。

在 MPO 光纤的实际抛光应用中,HS300S 氧化铈抛光液将产品优势转化为实际加工价值:配合常规抛光设备,即可实现 MPO 光纤端面的纳米级高平坦化抛光,抛光后光纤连接器的光传输损耗低、透光率高,完全满足高密度光纤布线场景的严苛要求。同时,高抛光良率、高加工效率与低耗材损耗的结合,让企业在提升产品品质的同时,有效控制生产成本,实现降本增效的生产目标。

作为光通信抛光领域的优质耗材,HS300S 氧化铈抛光液始终以 “适配、高效稳定” 为核心,持续为 MPO 光纤及各类光通信器件的精密加工提供可靠支撑。未来,我们也将继续深耕抛光液材料研发,根据光通信行业的技术升级需求,不断优化产品性能,为行业发展提供更贴合需求的抛光解决方案。



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